光效翻倍，工艺创新：广纳四维光波导全链路能力亮相 CIOE 2026

9 月 9 日，第二十六届中国国际光电博览会（CIOE 2026）在深圳国际会展中心开幕。AR 衍射光波导企业广纳四维（SEEV）以「呈现更丰富的世界」为主题亮相 2 号馆 2A121 展位，集中展示了覆盖碳化硅刻蚀全彩、纳米压印全彩、单色高光效、超高透过率、超轻薄、屈光贴合在内的全产品光波导矩阵。开展首日，展位人流密集，来自终端品牌、上游材料与设备厂商、投资机构及行业媒体的观众在展台前长时间驻足，围绕光波导的量产稳定性与成本曲线展开交流。

碳化硅刻蚀全彩旗舰 C30CE Pro，是本届展会产品升级的代表。相较去年展出的 C30CE，新一代产品通过耦入镀铝工艺实现光效翻倍提升；采用半导体级 DUV 光刻与高精度 ICP 刻蚀工艺，单片镜片实现原生全彩成像，有效消除彩虹纹，厚度＜0.6mm、单片重量＜3g。C25C 纳米压印单层全彩光波导兼顾性能与成本，制造成本降至主流刻蚀方案的 1/3 或更低，适配消费级 AR 设备。高性能双色显示 D27I 定位于以接近全彩的视觉表现压低消费级成本门槛，满足差异化显示需求。B25G 单色光波导已实现大批量稳定出货，是当前 AI 眼镜信息提示的主力光学方案。此外，超薄刻蚀 Ultra-Thin SiC与超轻薄玻璃基底波导同步展出，构成从旗舰到入门、从全彩到单色的完整产品图谱。

广纳四维此次重点呈现了四条技术主线。其一，超透光波导基于自研整面 PVD 镀膜工艺，将非光栅区透过率提升至 99% 以上、光栅区透过率提升至 94% 以上，使镜片外观趋近普通眼镜；其二，超表面光波导引入蛾眼超表面结构，在波导边缘抑制光栅畸变、消除透过区域的景象变形，并同步实现非光栅区增透，相关方案已实现小批量产；其三，碳化硅减薄方向给出了清晰的迭代路径——全贴合减薄碳化硅波导厚度由 1.0mm 向 0.5mm、0.35mm、0.3mm、0.25mm 逐级推进，配合 OCR 液态光学胶全贴合消除牛顿环、提升环境与机械可靠性，整体制造成本可降至传统方案的 1/3 以下；其四，屈光贴合方向以 0.5mm SiC 屈光贴合波导为代表，将碳化硅波导与屈光镜片一体化贴合，屈光范围覆盖 -1.00D 至 -10.00D，可按需定制。

展位现场，多款搭载广纳四维光波导的市售量产 AR 智能眼镜集中亮相，包括逸文科技 Even Realities G1/G2、科大讯飞 AI 眼镜、Coray Air2 碳化硅刻蚀全彩 AR 眼镜等，覆盖单色信息提示与全彩显示等不同应用场景。这些产品已在全球多个国家和地区上市销售，验证了广纳四维光波导方案从设计到量产、从器件到整机的成熟交付能力。

展会同期，广纳四维联合创始人、CTO史瑞博士出席「微纳加工产业论坛」并发表主题演讲《用于AI眼镜单绿色衍射光波导的性能以及量产成本》。

史瑞博士指出，AI眼镜的核心显示需求与VR/AR头显不同——文字提示（FOV 20°–30°单色）与图片信息（FOV 25°–30°彩色）是主要场景。单绿色光波导方案经过5年发展迭代，已具备高透过率、极致轻薄、低成本、高良率等综合优势，是当前产业化成熟度最高的AR光学方案，也是AI眼镜文字信息显示的主力光学器件。

演讲中，史瑞博士系统梳理了广纳四维在单绿光波导领域的三类产品方案。基础单绿方案基于纳米压印工艺，光栅透过率90%、非光栅区透过率92%，工艺简单、成本可控。增透单绿方案在纳米压印基础上增加UV工艺，制造流程8道工序，非光栅区透过率提升至99%。高性能单绿方案采用双面AR工艺，光栅透过率94%、非光栅区透过率99%，制造流程11道工序，面向追求极致显示品质的应用场景。

史瑞博士表示，三类方案覆盖从成本优先到性能优先的完整需求光谱，广纳四维以IDM模式覆盖光学设计、制造封装测试全链条，为客户提供可量产的差异化选择。