广纳四维SEEV X 优利赛尔Eulitha | 携手碳化硅光波导量产应用

高性能与可量产，

这是AR走向普及的两道必答题。

广纳四维与EULITHA为此携手，

给出了同一份答案。

一方深耕碳化硅刻蚀光学。

广纳四维将碳化硅引入光波导，依托其高折射率、高机械强度与优异透光性能，配合自研DUV光刻与刻蚀工艺，在碳化硅基底上实现纳米级光栅的精准加工，最终呈现单片全彩显示、无彩虹纹。

另一方专精纳米图案化。

EULITHA 以先进的 DUV 深紫外光刻技术，在碳化硅基底上完成大面积、高精度的图案制备，仅需一次曝光即可高效制备多组波导，兼顾分辨率与产能。

碳化硅光学器件 × DUV光刻，强强联合。

从光刻、刻蚀到镀膜组装，每一道工序以严苛公差收口，最终沉淀为优异的光学性能与流畅的用户体验，高性能、可规模化的 AR 眼镜正在成为现实。

广纳四维 X EULITHA，让光，精准抵达。