广纳四维亮相2026年AI眼镜中国行论坛，共议衍射光波导技术与材料的实战探索

2026 AI眼镜中国行论坛暨颁奖典礼于4月10日圆满落幕。广纳四维（SEEV）政企行业总监乔流受邀发表主题演讲《衍射光波导技术与材料的探索》，分享了广纳四维在AI+AR时代的前瞻布局与硬核技术成果。

在主题演讲中，乔流从AI硬件载体的演进切入，指出智能眼镜正成为AI大模型落地的最佳可穿戴载体。围绕衍射光波导技术，重点阐释了广纳四维的三大核心优势。

广纳四维通过创新的晶圆级碳化硅刻蚀工艺，不仅提升了光学器件的性能，更为智能穿戴设备的发展开辟了新的可能性。

公司率先完成纳米压印与刻蚀双技术路线布局，成为全国首家贯通两大主流工艺的光波导制造商，年产能冲刺百万套，奠定了量产交付的坚实基石。

广纳四维建立严于行业的检测标准，通过全流程精密检验，确保每一片光波导均视野纯净，无惧汗水、跌落等严苛挑战，为用户提供可靠保障。

乔流特别指出：“AI眼镜的爆发不仅依赖大模型，更需要光学基底的性能跃迁。 广纳四维通过极致轻薄、高透光、高可靠的波导方案，让智能眼镜从‘能用’真正走向好用。”

未来，广纳四维将持续深化政企与全球客户合作，让更清晰、更真实、更精彩的光学体验触手可及，在AR衍射光波导技术领域持续深耕，为全球用户带来更多高质量、高性能的微纳光学产品及服务。