碳化硅刻蚀推动AR光学升级，广纳四维亮相碳化硅光波导技术研讨会

11月7日无锡，广纳四维产品市场总监杨智杰受邀出席由半导体在线主办的碳化硅光波导技术研讨会，发表「衍射光波导新技术&新材料助力AI+AR发展」主题演讲，并参与「碳化硅赋能AR眼镜：技术突破、瓶颈问题与产业化路径」圆桌对话，与行业专家共探产业发展前景。

杨智杰在演讲中强调，智能眼镜的成功关键在于实现“普通眼镜般的佩戴体验”。消费者更关注外观和佩戴感受，而非单纯的功能参数。

为实现这一目标，广纳四维创新性地提出从碳化硅晶圆来料端着手，通过严格定义晶圆参数，确保底层材料的光学均匀性与一致性，为后续纳米级刻蚀加工奠定基础。

“我们从晶圆源头把控质量，通过优化材料参数提升整体光学性能。”杨智杰表示，这一举措使光波导能够实现更高的显示均匀性和更低的能量损耗。

在碳化硅基底上制作复杂光栅结构一直是行业难点。广纳四维将半导体制造工艺引入光学芯片生产，采用DUV光刻与反应离子刻蚀工艺，成功突破纳米级加工瓶颈。

杨智杰指出，通过建立完整的半导体工艺制造体系，公司已实现碳化硅波导片的批量生产，厚度控制在0.7mm以内，重量仅4g，为智能眼镜的轻薄化提供了关键技术支撑。

在圆桌讨论环节，与会专家一致认为，碳化硅光波导技术的产业化需要产业链上下游的紧密协作。

杨智杰表示，广纳四维正积极与碳化硅材料供应商、设备厂商及终端品牌合作，共同完善产业链生态。从晶圆来料到最终整机设备，每个环节都需要协同创新，才能推动整个行业向前发展。

随着搭载碳化硅波导的智能眼镜陆续量产，AR行业正迎来新的发展机遇。广纳四维将继续深耕AR光学领域，以技术创新与量产能力双轮驱动，助力智能眼镜产业实现规模化发展。