碳化硅刻蚀与全彩波导新突破，广纳四维揭示AR光学未来路径

10月15日，在行家说Display与行家说三代半联合举办的「化合物半导体（SiC/Micro LED）赋能AR眼镜技术创新发展论坛」上，广纳四维产品市场总监杨智杰发表了题为《衍射光波导新技术& 新材料助力AI+AR发展》的主题演讲，系统阐述了AR衍射光波导在技术演进、材料选择与量产挑战等方面的关键进展，并重点分享了广纳四维在碳化硅刻蚀及全彩波导领域的技术突破与战略思考。

在核心材料路径方面，广纳四维明确将碳化硅作为下一代光波导的核心光学材料。杨智杰指出，碳化硅具备高折射率、低密度等物理特性，契合AR眼镜对轻薄与光学性能的双重要求。然而，其加工难度也成为行业普遍面临的挑战。

当前，单色波导技术已趋于成熟，而全彩显示被视为AR眼镜走向普及的关键拐点。杨智杰在演讲中强调，全彩波导不仅显著提升信息获取效率，更能从根本上改善用户体验，但其实现仍面临色彩还原度、亮度与镜片厚度之间的平衡难题。

广纳四维通过优化刻蚀工艺路径，在保持镜片轻薄特性的同时，持续推进全彩显示性能的提升。目前，公司已实现基于碳化硅刻蚀的全彩波导制备，该产品技术已成功应用于全球首款可量产的碳化硅刻蚀全彩AR眼镜Coray Air2，并在色彩表现与光学效率方面取得实质性进展。

在量产化方面，加工均匀性是目前行业面临的主要挑战之一。光栅精度控制与工艺一致性直接影响大规模生产的可行性与成本结构。广纳四维通过小批量验证持续优化工艺参数，致力于提升加工效率与批量生产的稳定性。公司在相关工艺直通率方面已达到95%，为后续规模化扩产奠定基础。

演讲最后，杨智杰指出，AR市场的真正爆发仍需在光学性能、成本控制与用户体验之间找到最佳平衡点。全彩显示结合高良率光波导技术将成为核心驱动力，而碳化硅等新材料与刻蚀工艺的进步正加速这一进程的到来。

广纳四维将继续聚焦衍射光波导的技术创新与量产推进，助力AI+AR产业的融合发展。

 

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